该设备为我司研发用于石墨烯薄膜连续生长或者线性材料的连续的设备，此款设备是快速冷却卷对卷CVD连续生长炉，它由高温生长腔体，三路质量流量计气路系统，真空机组，石英管，冷却装置，收放卷的密封装置，自动化控制系统组成，两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室（即收放铜箔或纤维丝的密封装置），收放密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮，所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有

低真空CVD石墨烯生长系统是由1200度开启式管式炉、精密的质量流量控制系和真空系统所组成。广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。