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CVD系统

回转CVD设备负极材料烧结设备二维材料制备碳纳米管

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BTF-1200C-II-CVD1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空）

更新时间：2021-09-27

型号：BTF-1200C-II-CVD

浏览量：1162

BTF-1200C-II-CVD1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空）是由1200℃双温区开启式管式炉、三路质量流量计及低真空系统组成，根据工艺要求亦可选配高真空系统。设备可以抽真空通气体保护。
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BTF-1500C-3ZL低真空CVD系统

更新时间：2021-09-27

型号：BTF-1500C-3ZL

浏览量：1019

低真空CVD系统是由多通道高精度的质量流量计、低真空机组以及1500度高温管式炉组成。其广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
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BTF-1200C-S-CVD迷你型CVD系统

更新时间：2021-09-27

型号：BTF-1200C-S-CVD

浏览量：984

BTF-1200C-S-CVD迷你型CVD系统控温方式：模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
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BTF-1200C-SL-CVD滑轨式CVD石墨烯生长系统

更新时间：2021-09-27

型号：BTF-1200C-SL-CVD

浏览量：1060

滑轨式CVD石墨烯生长系统是专为生长石墨烯、碳纳米管研制的生长专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验，温区可独立程序控制，设备操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。
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迷你型CVD系统

更新时间：2021-09-27

型号：

浏览量：2101

迷你型CVD系统控温方式：模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
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1700度高温CVD系统（高真空低真空可选）

更新时间：2021-09-27

型号：

浏览量：3757

BTF-1700C-CVD1700度高温CVD系统（高真空低真空可选）是由1700度管式炉、三路质量流量计系统以及国产高真空系统（或选配低真空系统）所组成。
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BTF-1200C-V-R-280回转CVD设备

更新时间：2020-08-11

型号：BTF-1200C-V-R-280

浏览量：1073

回转CVD设备： 1、本设备提供一个五温区的超长温场，五个温区可独立控制 2、保温材料采用氧化铝纤维防尘处理，上下可电动开启。 3、流量计和加热采用模块化设计，便于维护保养。 4、加热元件采用康泰尔掺钼合金电阻丝，z高使用温度可以达到1200度，使用寿命长，温场流场均匀。 5、采用触摸屏和工控电脑自动控制，参数设置和操作直观方便，参数自动记录保持。 6、设备集成化设计、以及集成化管理，美观方便
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BTF-1200C-SK摇摆炉

更新时间：2020-07-28

型号：BTF-1200C-SK

浏览量：927

摇摆炉BTF-1200C-SK 1.，30段可编程精密温度控制器 2.可根据不同的客户需求来设定升降温程序 3.可设定取放料工位 4.设定摇摆起始工位（如横向作为起始工位），可实现液晶屏一键归位 5.可通过摇摆提高熔体均匀性、细化晶粒
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