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智能型PECVD系统(含压力控制系统)

简要描述:智能PECVD设备是目前最新型的一款设备,将所有的控制部分集为一体,此款设备是我司于2013年研发成功的,可配备PE射频电源,将CVD系统升级为PECVD。当参与反应的气氛进入炉管在射频电源的作用下产生离子体,可使反应更加充分。同时等离子体起增强的作用,从而很大程度上优化实验的工艺条件。

  • 产品型号:PECVD-500A-D
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-10-27
  • 访  问  量:130

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详细介绍

品牌贝意克

 我公司研制的滑轨式PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光均匀等效,这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态,这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍,并解决了物料不均匀堆积现象。

 与传统CVD系统比较,生长温度更低。

 使用滑轨炉实现快速升温和降温。

 设备特有的技术使得整管辉光均匀等效,均匀生长。

主要特点:

1.薄膜沉积速率高:射频辉光技术,大大的提高了薄膜的沉积速率,沉积速率可达10Å/S;
2. 大面积均匀性高:采用了先进的多点射频馈入技术,特殊气路分布和加热技术等,使得薄膜均匀性指标达到8%;
3. 一致性高:用半导体行业的先进设计理念,使得一次沉积的各基片之间偏差低于2%;
4. 工艺稳定性高:高度稳定的设备保证了工艺的连续和稳定;
 

技术参数:

1、单温区加热系统

最高温度

1200

使用温度

1100

炉膛有效尺寸

Φ60*1650mm

炉膛材料

氧化铝、高温纤维制品

热电偶类型

K

控温精度

1

控温方式

30段可编程控温,PID参数自整定,

操作界面为10"工控电脑,内置PLC控制程序,

ƒ可将温控系统、滑轨炉滑动(时间和距离)设定为程序控制。

加热长度

440mm

恒温长度

200mm

加热原件

电阻丝

供电电源

220V

额定功率

3KW


2PE射频电源

CVD系统可配备PE射频电源,将CVD系统升级为PECVD。当参与反应的气氛进入炉管在射频电源的作用下产生离子体,可使反应更加充分。同时等离子体起增强的作用,从而很大程度上优化实验的工艺条件

信号频率

13.56 MHz±0.005%

功率输出范围

500W

射频输出接口

50 Ω, N-type, female

功率稳定度

±0.1%

谐波分量

-50dbc

供电电压

单相交流(187V-253V 频率50/60HZ

整机效率

>=70%

功率因素

>=90%

冷却方式

强制风冷


3、五路质子流量控制系统

供气系统是一种可控制4种气体按不同流量进行混合配比,也可根据实验需求加装洗气装置,质量流量计安装于密封的可移动机柜内,由超洁双抛不锈钢管与精密双卡套接头连接组成触摸屏控制

连接头类型

双卡套不锈钢接头

标准量程

氩气:1000sccm

氢气:300sccm

甲烷:100sccm

氮气:500sccm

氧气:100sccm

准确度

±1.5%

线性

±0.51.5%

重复精度

±0.2%

响应时间

气特性:14 Sec,电特性:10 Sec

工作压差范围

0.10.5 MPa

最大压力

3MPa

接口

Φ6或者1/4''可选

显示

4位数字显示

工作环境温度

5~45高纯气体

压力真空表

0.10.15 MPa, 0.01 MPa/


4真空机组

真空机组,内部安装双极旋片机械泵1台,电容真空计1套,并含有配套使用的波纹管,手动挡板阀,卡箍等连接部件。设备冷态极限真空可达0.5Pa

工作电电压

220V

功率

1

抽气速率

16m³/h

极限真空

0.5Pa

进气口口径

KF25

排气口口径

KF25

连接方式

采用波纹管,手动挡板阀与波纹管相连

电容真空计

ZDM-I(

5-5000pa

不需因测量气体种类不同而需要系数转换。具有较高的精确度和重复性,响应时间较短


5、压力控制系统:

压力控制系统主要部件蝶阀、压力控制器、电容真空计组成。

压力控制系统的作用:根据实验要求,在出气端和泵之间增加蝶阀(调节阀)和真空计,真空计可检测管内压力,通过 PLC 调节蝶阀(调节阀)开启的大小,以达到控制管内压力不变。

压力可范围:100~100000Pa

控制精度:测量值±5%



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