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CVD系统

二维材料制备碳纳米管

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自动进料回转CVD系统

更新时间：2020-03-25

型号：

浏览量：274

产品简介： 1.该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀； 2.可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间。 3、广泛应用于电池正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料。 4、可在真空下或气氛保护下进行烧制。
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BTF-1200C-II-PECVDCVD系统

更新时间：2021-10-22

型号：BTF-1200C-II-PECVD

浏览量：311

CVD系统是借助于辉光放电等方法产生等离子体，辉光放电等离子体中：电子密度高109-1012cm3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。通过反应气态放电，有效地利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式,低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点，工艺流程简单。
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BTF-1200C-HV高真空自动循环设备

更新时间：2021-09-28

型号：BTF-1200C-HV

浏览量：402

BTF-1200C-HV高真空自动循环设备内外双热电偶控制，内热电偶制动，使用者可以设定设备循环温度点，可根据内热电偶测得的温度制动，推动炉管进出加热腔体，整个实验过程可自动控制无需人工干涉。
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碳纳米管

更新时间：2021-10-14

型号：

浏览量：388

流化床—粉体碳纳米管生长设备通过流量计和静态混气室把气体均匀混拌，通过上通气，气体通过双层管（夹层管预热气体，内腔体生长碳纳米管）确保通入的气体进入生长腔体内温度一直，通过多空陶瓷网的结构设计，从而解决均匀进气的问题。使的生长腔体热场流场稳定，确保得到高质量重复性好的碳纳米管。
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复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备

更新时间：2021-09-27

型号：

浏览量：295

复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备，可以实现在多孔氧化铝陶瓷管和陶瓷片上化学沉积上氧化物（SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2）和复合氧化物（Al2O3-SiO2、SiO2-TiO2、SiO2- ZrO2）氢分离膜。
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BTF-1200C-II-SL-210双炉膛滑动CVD控制系统

更新时间：2021-09-27

型号：BTF-1200C-II-SL-210

浏览量：277

双炉膛滑动CVD控制系统操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。
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BTF-1200C-II-R-CVD连续进出料回转CVD生长设备

更新时间：2021-09-27

型号：BTF-1200C-II-R-CVD

浏览量：268

连续进出料回转CVD生长设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间。
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BTF-1200C-II-SL大三温区滑轨CVD系统（低真空、高真空环境）

更新时间：2021-09-27

型号：BTF-1200C-II-SL

浏览量：226

BTF-1200C-III-SL-4ZL大三温区滑轨CVD系统（低真空、高真空环境）控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能.
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